在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，射頻能量直接決定了反應(yīng)室中等離子體的特性。在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，任何環(huán)節(jié)的可靠性都影響了最終良率。如在wafer生產(chǎn)的20日周期內(nèi)，如若任何環(huán)節(jié)出現(xiàn)的微小偏差，最終可能會(huì)造成晶格損傷等嚴(yán)重問(wèn)題，造成大批壞片。作為產(chǎn)業(yè)鏈其中的環(huán)節(jié)之一，維持射頻電源的穩(wěn)定輸出是不可或缺的。在蝕刻、鍍膜等工藝中對(duì)射頻電源的應(yīng)用非常廣泛，射頻上可能出現(xiàn)的問(wèn)題直接制約了生產(chǎn)工藝及效率。在新進(jìn)設(shè)備裝機(jī)驗(yàn)證及日常運(yùn)行階段，需要定期使用RF Dummy Load校準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)射頻電源進(jìn)行驗(yàn)證輸出一致性并加以校正；當(dāng)機(jī)臺(tái)設(shè)備出現(xiàn)故障時(shí)，需要使用 RF Dummy Load校準(zhǔn)系統(tǒng)進(jìn)行故障排查檢測(cè)。